氣相氧化鋁高剪切分散機(jī),納米氧化鋁高剪切分散機(jī),氧化鋁高剪切均質(zhì)分散機(jī),節(jié)能燈氧化鋁高剪切分散機(jī)

氣相法氧化鋁產(chǎn)品具有許多特殊的物理化學(xué)特性，例如，納米級顆粒，高純度，低含水量，這些特性都成為當(dāng)今高質(zhì)量熒光燈涂層解決方案中至關(guān)重要的一部分。氧化鋁反射透過熒光粉層的紫外光，使其繼續(xù)激發(fā)熒光粉，提高了熒光燈的發(fā)光效率，第二，氧化鋁作為有效的汞擴(kuò)散阻擋層，可將汞的用量降到低限度，能夠延長燈的使用壽命，第三，氧化鋁作為粘結(jié)劑能夠提高熒光粉和玻璃燈管之間的粘結(jié)強(qiáng)度，使熒光粉不脫落。

氧化鋁分散機(jī)，隔膜電池漿料分散機(jī)，比比普通的分散機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上，分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好，高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。

二、氧化鋁的分散問題

氧化鋁分散機(jī)，隔膜電池漿料分散機(jī)，比比普通的分散機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上，分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好，高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。

按照一定的配方，先預(yù)混，然后研磨分散  

氣相氧化鋁高剪切分散機(jī) 

機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
我們將多級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將多級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。
膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

1  線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

氧化鋁研磨分散機(jī)，隔膜漿料研磨分散機(jī) 

*水性漿料分散機(jī)，是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢在于，粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時(shí)分散十分重要，而砂磨機(jī)難以分散。
KZD2000系列研磨分散設(shè)備是ZKE（太倉）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

六、節(jié)能燈氧化鋁高剪切分散機(jī)選型表