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昆山鐳射麥克激光技術(shù)有限公司

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MK-TYNKM5D 太陽(yáng)能薄膜電池刻膜機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)MK-TYNKM5D

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更新時(shí)間：2024-11-09 13:37:12瀏覽次數(shù)：103次

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昆山鐳射麥克激光技術(shù)有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

該系統(tǒng)包含了四臺(tái)獨(dú)立的激光刻蝕設(shè)備：透明導(dǎo)電膜（TCO）（P1）的刻膜設(shè)備，等離子氣相沉積PECVD制造的SI膜（P2）的刻膜設(shè)備，背電極AL膜（P3）的刻膜設(shè)備，以及電池的邊絕緣清洗設(shè)備。

詳細(xì)介紹

應(yīng)用

我公司研發(fā)制造的薄膜太陽(yáng)能電池全自動(dòng)激光刻蝕系統(tǒng)，是迄今為止國(guó)內(nèi)*投入生產(chǎn)的全自動(dòng)高速非晶硅太陽(yáng)能電池板激光刻膜機(jī)，是非晶硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線中重要的組成設(shè)備，采用美國(guó)生產(chǎn)的復(fù)合型高質(zhì)量激光器與*精度的傳送/定位模組，能實(shí)現(xiàn)超過4000mm/s 的超高加工速度。該系統(tǒng)包含了四臺(tái)獨(dú)立的激光刻蝕設(shè)備：透明導(dǎo)電膜（TCO）（P1）的刻膜設(shè)備，等離子氣相沉積PECVD制造的SI膜（P2）的刻膜設(shè)備，背電極AL膜（P3）的刻膜設(shè)備，以及電池的邊絕緣清洗設(shè)備。

特點(diǎn)

高速智能化，豐富的PLC和電腦串口通訊接口

高精度和高穩(wěn)定性

滿足1250*640、1400*1100等不同玻璃基板的刻蝕劃線工作

采用雙倍CCD視覺系統(tǒng)

維護(hù)簡(jiǎn)易和簡(jiǎn)便操作

技術(shù)參數(shù)

激光物質(zhì)	Nd³⁺: YVO4
激光波長(zhǎng)	1064 nm
調(diào)制頻率	1-200 kHz
激光功率	20 W
光束發(fā)散角	≤2.0 mrad
脈寬	35 ns
重復(fù)定位精度	±10 nm
刻膜速度	800-1500 mm/s
額定輸入電壓	AC 380V ±10%, 50Hz/60Hz
zui大輸入功率	12 kVA
外形尺寸	4500mm×2500mm×1700mm
凈重	≥6000Kg
冷卻方式	水冷
刻蝕項(xiàng)目	TCO: SnO₂, ZnO
刻膜規(guī)格	1400×1100mm 1250×635mm
刻膜寬度	30-60μm
三線總寬	300-500μm

關(guān)鍵詞：清洗設(shè)備 PLC

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