INFICON傳感器 射頻傳感器
INFICON 射頻傳感技術(shù)能夠?yàn)榘雽?dǎo)體過程工具提供高度準(zhǔn)確、寬頻、頻率判別式射頻測量。通過此射頻數(shù)據(jù)，可以詳細(xì)了解過程開發(fā)和生產(chǎn)過程問題中的實(shí)際等離子狀態(tài)，大幅降低過程變異性。此款非接觸嵌入式電纜安裝的射頻傳感器是其*過程控制 現(xiàn)場 傳感器套件中的款傳感器，可以與 FabGuard 傳感器集成與分析系統(tǒng)結(jié)合使用，提供關(guān)鍵診斷信息，例如準(zhǔn)確的腔室和過程功率與阻抗測量、故障根本原因分析（例如匹配網(wǎng)絡(luò)問題）、用于腔室匹配的過程“指紋”識(shí)別以及 PVD、CVD 和蝕刻應(yīng)用的晶片計(jì)量建模。
INFICON 射頻傳感器技術(shù)利用 FabGuard 打造了高精確的產(chǎn)品，可通過對基本電壓電流和諧波電壓電流進(jìn)行測量與分析（包括相角測量），預(yù)測晶片計(jì)量結(jié)果，因而工程師能夠控制每個(gè)加工晶片的實(shí)際晶片計(jì)量結(jié)果?，F(xiàn)在，F(xiàn)abGuard *的強(qiáng)大算法性能與射頻傳感技術(shù)*結(jié)合，可以基于實(shí)時(shí)測量以及易于理解的用戶界面所提供的相關(guān)性分析，顯著提高半導(dǎo)過程的可重復(fù)性、穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。
產(chǎn)品功能
CVD 應(yīng)用
- 晶片計(jì)量建模（薄膜應(yīng)力、薄膜厚度）
- 對過程腔室提供的真正功率進(jìn)行有功功率控制
- FDC（例如等離子體不穩(wěn)定性、充電）
- 腔室匹配（射頻指紋）
PVD 應(yīng)用
- 晶片計(jì)量建模（電阻率）
- FDC
- 腔室匹配（射頻指紋）
蝕刻應(yīng)用
- 晶片計(jì)量建模（蝕刻速率）
- 對過程腔室提供的真正功率進(jìn)行有功功率控制
- FDC
- 腔室匹配（射頻指紋）。
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