
主要技術(shù)參數(shù):
1. 氫氣純度:99.999%
2. 氫氣流量:0-500ml/min
3. 氫氣輸出壓力:0-0.3Mpa
4. 氫氣壓力穩(wěn)定性:< 0.001MPa
5. 零氣輸出流量:0-1000ml/min
6. 零氣輸出相對碳氫濃度(如甲烷):<0.02PPM
7. 零氣輸出壓力:0.1-0.4MPa(內(nèi)置無油空壓機)
8. 零氣露點:<-20℃
9. 零氣顆粒:<0.01μm
10. 工作條件;室內(nèi)或戶外,外置補水桶(可自動補水).
11.工作溫度:400-500℃(出廠設(shè)定為450℃)
12. 供電電源: 220V±10% 50~60Hz
13. 峰值功率: 960W
14. 外型尺寸: 550×480×355(mm)
15. 凈重: 約28Kg
儀器特點:
本儀器有高純氫發(fā)生器和零級空發(fā)生器巧妙組合:
1.氫氣部分:自動補水,自動防返液,流量自動跟蹤,采用風(fēng)機凝冷和壓差返流技術(shù),使硅膠更換周期為6個月(24小時不間斷工作) ,
2.零氣部分:采用高溫催化氧化技術(shù),以多種貴金屬材料做催化劑。將烴類物質(zhì)氧化生成二氧化碳和水,達到凈化的目的。
3.內(nèi)置進口脫水膜和顆粒過濾裝置,使產(chǎn)品氣的露點降至-20℃以下,顆粒直徑小于0.01微米。內(nèi)裝緩沖凈化罐,用于推動色譜內(nèi)氣動閥組。 使用簡單,維護方便.
1.氫氣部分:自動補水,自動防返液,流量自動跟蹤,采用風(fēng)機凝冷和壓差返流技術(shù),使硅膠更換周期為6個月(24小時不間斷工作) ,
2.零氣部分:采用高溫催化氧化技術(shù),以多種貴金屬材料做催化劑。將烴類物質(zhì)氧化生成二氧化碳和水,達到凈化的目的。
3.內(nèi)置進口脫水膜和顆粒過濾裝置,使產(chǎn)品氣的露點降至-20℃以下,顆粒直徑小于0.01微米。內(nèi)裝緩沖凈化罐,用于推動色譜內(nèi)氣動閥組。 使用簡單,維護方便.