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廣州市旭升環(huán)保工程有限公司
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產(chǎn)品型號
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地廣州市
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更新時間：2020-09-28 10:52:10瀏覽次數(shù)：789次
聯(lián)系我時，請告知來自 食品機械設(shè)備網(wǎng)| 產(chǎn)水量 | 10T | 工作壓力 | 3mpa |
|---|---|---|---|
| 規(guī)格 | 2500*900*1600 | 進水口徑 | 65mm |
半導體芯片清洗工業(yè)超純水設(shè)備
半導體芯片清洗用水、半導體封裝用水設(shè)備、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體芯片清洗工業(yè)超純水設(shè)備
半導體芯片清洗工業(yè)超純水設(shè)備用水、半導體封裝用水設(shè)備、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
超純水設(shè)備系統(tǒng)根據(jù)半導體芯片用水要求，采用當今*的全自動CEDI電去離子超純水處理技術(shù)，前置預處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，然后運用CEDI系統(tǒng)，進一步提升水質(zhì)，超純水水質(zhì)*符合半導體超純水用水要求。超純水系統(tǒng)采用全自運控制，科瑞設(shè)備具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡便、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便等優(yōu)點，已廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)藥、電力、汽車等相關(guān)行業(yè)。
二、半導體清洗超純水設(shè)備制備工藝
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 反滲透+混床設(shè)備
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) EDI設(shè)備
三、半導體芯片清洗超純水設(shè)備水質(zhì)標準
半導體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準
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